Navigator 1100生产型型离子束镀膜系统主要特点如下：

·        主离子源：射频耦合（频率：2MHz), 无灯丝, 钛材质三栅级，

Ø 15cm, 离子束流：≥ 500mA离子能量：1-2keV，氩气/氙气或氧气

·        辅助离子源：射频耦合，无灯丝, 钛材质三栅级,  Ø 10cm

离子束流：0 - 200mA，离子能量：100eV-1000eV, 氩气或氧气

·        中和器：射频耦合，无灯丝, 最大电流900mA

·        靶材：具有两个面，每一个面可以安装两种不同的靶材

·        在直径400mm范围内镀膜均匀性≤1%，无掩模

·        单基片旋转工件架，旋转速度：0-120转/分 可调

·        石英晶振膜厚控制仪和可见光/红外/深紫外波段光控可选

·        触摸屏人机界面，全自动镀膜控制系统

·        可选项：进样室，基片加热或水冷，双基片工件架等

离子源图片：

设备照片：