M600磁控溅射镀膜系统

M600 磁控溅射镀膜系统,一款通用型多用途磁控溅射系统, 主要用于:研发和小批量生产等领域。
主要技术指标:
工件台尺寸 |
圆形工件台,直径200mm(8英寸) |
工件台 |
可调转速,射频偏压清洗,基片加热(500℃)或水冷 |
装载量 |
三个4英寸或七个3英寸基片 |
阴极数量 |
四个直径4英寸溅射阴极可调角度 |
溅射方向 |
共焦向下溅射或垂直溅射 可选 |
溅射电源 |
3KW直流, 600W或1KW射频可选 |
泵抽系统 |
机械干泵+ 低温泵 无油真空系统 |
抽气速率 |
工艺腔室:从大气到6x10-4 Pa≤30分钟 |
极限真空 |
≤5x10-5
Pa |
漏率 |
≤5x10-3 Pa.L/s |
进样室 |
单基片自动进样室(手动装卸载基片) |
工艺恢复时间 |
工艺腔传送样品后:恢复到6x10-4 Pa≤15分钟 |
计算机系统 |
自动化控制系统 |
镀膜均匀性 |
直径200mm(8英寸)范围内均匀性≤ ±3% |
设备尺寸约 |
2500mm宽x 1400mm深 x 2100mm高 |
更多详细资料,欢迎来电沟通和交流。