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M600磁控溅射镀膜系统

M600 磁控溅射镀膜系统,一款通用型多用途磁控溅射系统, 主要用于:研发和小批量生产等领域。 

主要技术指标:

工件台尺寸

圆形工件台,直径200mm(8英寸)

工件台

可调转速,射频偏压清洗,基片加热(500)或水冷

装载量

三个4英寸或七个3英寸基片

阴极数量

四个直径4英寸溅射阴极可调角度

溅射方向

共焦向下溅射或垂直溅射 可选

溅射电源

3KW直流, 600W1KW射频可选

泵抽系统

机械干泵+ 低温泵 无油真空系统

抽气速率

工艺腔室:从大气到6x10-4 Pa≤30分钟

极限真空

≤5x10-5 Pa

漏率

≤5x10-3 Pa.L/s

进样室

单基片自动进样室(手动装卸载基片)

工艺恢复时间

工艺腔传送样品后:恢复到6x10-4 Pa≤15分钟

计算机系统

自动化控制系统

镀膜均匀性

直径200mm8英寸)范围内均匀性±3%

设备尺寸约

2500mmx 1400mm x 2100mm


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